AXIC Inc. 提供的 BenchMark 800-III®ICP系统在深度反应离子刻蚀（DRIE）和低温低损伤等离子体增强化学气相蒸发沉积过程中提出了全新的概念。该系统提供模块化设计，带有通用的控制操作单元，提供了模块化设计，并带有更易安装的ICP刻蚀和沉积末端电极。我们相信BenchMark 800-III®一定会让您拥有更方便简单的操作，多样化的等离子体工序，更高的操作可靠性和更具竞争力的价格。 　

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AXIC BENCHMARK 800-II

CETR -UNMT (微 /奈米材料磨润特性测量仪 )

全世界最大磨润设备生产商─CETR (Center For Tribology Inc. 。其多功能磨润测试机 UNMT
(Universal Nano+Micro+Macro Materials Tester )

UNMT系列，其主要优点：
- 多功能磨润测试平台，客  可随时加装不同测试配备，以配合研究需求。
- 多种检测器可随时加装。
- 多种力量检测器可供选择，由Nano 至 Macro 等级均可 ( 10nN 至 1kN )。并具电脑伺服控制，可用于非平面样品)。
- 其上、下工作台，可随时加装全自动 X, Y , Z 轴移动或水平/垂直方向转动或左右来回运动。
- 所有移动轴皆具 submicron level encoder(0.25um / 0.5 um) 或最高之25nm encoder
- 其软件可支持高速数据拮取，最高每秒二十万次，并同时分析最高十六组检测器之讯号。

适用以下各种测试：
摩擦力(静态、动态)、划痕─硬度、微痕测试、附着力、耐久性试验(多轴式、拉紧、压缩、扭曲)、润滑性试验
、环境试验(真空、气体输入)─温度(40゜~1000゜c ) 湿度(0~100%)、材料测试(弹性、塑性...)、破坏性穿透

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CETR-UNMT

Tamarack 拥有大区域掩膜邻近对准器，提供非接触式照相平板印刷，最大限度地降低了接触式印刷带来的问题，例如重复瑕疵。邻近间隙（分离掩膜和基底）多样化，可适应多种工序应用。对准器可以实现从整个掩膜图像到单个曝光点的转换，因此可以保持很高的生产能力。这种精密的图像转换是由 Tamarack 大区域平行光源技术保证的。

Tamarack Model 152是手动校准，平行紫外光邻近曝光系统，应用于精确的图案复制。该系统独一无二地提供了邻近，软接触和真空接触成像方式。对比于传统的接触印刷，邻近印刷减少了掩膜损伤等问题，并允许使用固定的玻璃底图。 Model 152R的掩膜校准和曝光系统能很容易地完成对覆盖于陶瓷，玻璃，硅片或 PC 板基底上的大面积光刻胶进行精确地光学校准。

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Tamarack 152

CNTs Synthesis System

可控制奈米碳管种类(单壁/多壁) 直径.长度.方向性(DC Bias电场方式)
- 多种发热源可供选择(电阻式.红外线)
- 可升级到12个气体渠道及质量流量控制器(MFCs)
-  专利气化输送系统,可用酒精完全替代CH4 , C2H2….等等成为碳之主要来源
- 机台在常压下操作或在真空操作(选项)
- 提供Turnkey 成长奈米碳管、奈米线材(ZnO…)服务, 包括触媒、成长配方、设备及售后训练
- 独特低温配方(反应温度低于 550 deg C), 可在玻璃基板上长多壁奈米碳管

CNTs Nano Wires Synthesis System

- 为新世代奈米碳管.奈米线材专用成长配备
- 具Load Lock 选项.可单机多用,不会互相污染炉管
- 多种发热源可供选择 (电阻式.红外线.RF)
- 使用3＂或7＂直径石英炉管)
- 最多提供12个气体渠道及质量流量控制器(MFCs)

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Easy Tube Model 2000

Easy Tube Model 3000