NT1100可以实现高精度的三维表面测量，无论时亚纳米的粗糙度还是毫米级的台阶高度，都具备快速、可重复及高精度的的特性。体积小巧的NT1100具备Wyko工业标准光学轮廓仪的所有优点，包括完整的Vision®32分析软件包。先进的光学设计保证了在各种放大倍率下都有亚纳米级的垂直分辨率。添加数据缝合功能选项及马达驱动样品台，实现大视场的高分辨率测量。NT1100系统能为MEMS、厚膜、光学、陶瓷及先进材料的研发、生产领域提供精确的、行之有效的测量手段。

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Veeco Wyko NT1100

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4D PhaseCam 4010

专利产品AXIC TYGER 薄膜分析仪通过分析激光光源的反射光，针对透明薄膜研究的多角度反射仪。在几秒种内，就可完成对多层薄膜的精密测量。TYGER'S先进的设计将其独一无二的软件和激光光学相结合来测量实际薄膜的厚度，折射率和吸收率。

精密1000-B® 可以轻易地对应用于半导体，超导，磁学和光学领域的复合薄膜进行分析。这套全自动系统在生产环境中提供了快速的成份分析和厚度分析。精密1000-B®可以描述表征薄膜在沉积过程中的变量影响，一旦沉积过程确定，精密1000-B® 就如同一个质量监控器以保证薄膜生产中的成份和厚度要求。

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AXIC Tyger (left) and Precision 1000-B (right)

通过FILMETRICS最新反射式光谱测量技术,最多4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如 :
半导体工业 : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工业 : 间距 (Cell gaps)，ITO电极、Polyimide 保护膜。
光电镀膜应用 : 硬化镀膜、抗反射镀膜、过滤片。

极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供四种不同型号以供选择:

F20 : 这简单入门型号有三种不同波长选择(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)为任意携带型。薄膜厚度范围是 30A到100nm，精度为1A゜。

F30:这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。

F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供最小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。

F50:這型號配備全自動XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(Mapping)。
 

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Filmetrics F20

Filmetrics F30

Filmetrics F40

Filmetrics F50

结构测量系统以玻璃为例，TMS 2000 DUV-RC 设备不仅提供快速的,精确的，可重复性的微粗糙度测量，而且在测试量方面是同类测试设备的四倍。

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Schmitt TMS 2000 DUV-RC

斯坦福光热解决方案公司成立于2002年11月，致力于在光学仪器的研究开发、新型光学系统的制造以及在光学材料有关的各类课题上担任顾问。光热共光路干涉仪（Photo-thermal Common-path Interferometer, PCI）技术最为众瞩目。

它属于泵或探针类的热量透镜仪器，主要用于检测探针射线非常微弱的畸变，是利用一种在测试之下被泵浦激光吸收的物料。此设备的原始创意是研究在非线性光学晶体吸收影响和光学损伤性。运用二个激光头，一个激光头的作用是吸收，另一个激光头的用途监控作用，这是原始设计的关键要素。另一个激光头的用途监控作用，这一仪器能侦测到热效应的吸收，并且不受散射影响，能以2D或3D方式绘制吸收模型。这一技术可以成功应用到监视灰色磁轨的感应吸收、激光诱导增透性和光学损坏的原始阶段。

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SPTS PCI

SPTS PCI-02 with 2 pump ports (left) and PCI-03 with 1 pump port (right)

VIC是世界最大的只研究，设计，生产，分销和服务检漏设备和提供成套检漏方案的公司。MS-40在设计上的突破点是结合高测试端口压力，大功率内置机械泵和VIC独有的分光光度计。MS-40利用一个可偏转的双磁性扇形分光光度计试管以进行高真空离子测量，出厂时配有两根耐用的低电流的灯丝。自清洗加热排斥和自动闭环喷射控制可称得上是MS-40的设计的核心部件。随行的重离子不需要对分光光度计试管进行消电离作用，MS-40测试快速，在工业中被广泛应用。分光光度计的氦灵敏度达到3级或4级，可由操作者自行选择。

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VIC MS-40