Imago的旗舰产品——局部电极原子探针显微镜LEAP®是一款最新的原子探针显微镜，在已知的原子探针产品中，具有引以为傲的最快的数据采集速率，最大的视场及最大的数据分析量。

行业的责任是-及推动-Moore的理念继续对设备的完善作其不懈的追求以达到原子级别的公差，LEAP® 显微镜利用其特有的性能适用于以下方面 :

- 绘制掺杂物在超浅结式晶体管的结构

- 分析覆盖了Ti/TiN胶浆层的侧壁高度

- 确定salicidation的宽度

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Imago LEAP

Schmitt测量系统的重要产品是TMS 2000W-RC和TMS 3000W-RC，它们为计算机行业许多制造商提供了理想的解决方法。这些产品在制造硅片、计算机芯片和存储设备方面提供快速,准确,可重复性的测量。测量系统可完成几百个埃级别的测量，这是其它测试的设备所不能完成的。

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Schmitt TMS-2000W-RC

VIC是世界最大的只研究，设计，生产，分销和服务检漏设备和提供成套检漏方案的公司。MS-40在设计上的突破点是结合高测试端口压力，大功率内置机械泵和VIC独有的分光光度计。MS-40利用一个可偏转的双磁性扇形分光光度计试管以进行高真空离子测量，出厂时配有两根耐用的低电流的灯丝。自清洗加热排斥和自动闭环喷射控制可称得上是MS-40的设计的核心部件。随行的重离子不需要对分光光度计试管进行消电离作用，MS-40测试快速，在工业中被广泛应用。分光光度计的氦灵敏度达到3级或4级，可由操作者自行选择。

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VIC MS-40

全世界最大磨润设备生产商─CETR (Center For Tribology Inc.) ， 其最新推出之型号 eCP-4为世界首创兼具化学机械研磨及电化学机械研磨之桌上型机台。机台可用于 CMP , eCMP 制程之研究 及 有关消耗品之开发、研究。全自动电脑控制系统，可实时分析各种检测器之讯号 :

-          芯片与研磨垫 或 垫与麿垫片(CMP pad conditioner) 之间动态摩擦系数量测，从而了解芯片之研磨速度及不均匀性

-          在电化学机械研磨应用时，可实时侦测电流强度及电压值

-          透过音频输出检测器 ( acoustic emission detector) 所测得之能量及峰值，可判断研磨强度及半导体薄膜上极微小之裂缝、脱落

-          可实时侦测研磨液及研磨垫之温度变化

-          可实时侦测研磨垫在研磨时或磨垫时之磨损深度(pad wear depth)

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CETR 电化学机械研磨机